Proposed new premises

The chemical plant of NexWafe Si-Fab GmbH is located in Area D of the Bitterfeld-Wolfen Chemical Park on the premises of Silicon Products GmbH. The facilities were formerly used for polysilicon production and will soon be used for the production of silicon wafers for photovoltaics. It is a proven process for separating and purifying chlorosilanes, hydrogen chloride and hydrogen. The plant is classified as an upper-tier operation under the Federal Immission Control Act (BlmSchG). The plant is not currently in operation and therefore cannot pose a hazard. The operating staff are currently preparing the construction of a production plant for the industrial manufacture of high-quality monocrystalline silicon wafers. Recommissioning is planned after the completed construction of the silicon wafer manufacturing facility.

Die Chemieanlage der NexWafe Si-Fab GmbH befindet sich im Areal D des Chemieparks Bitterfeld-Wolfen auf dem Werksgelände der Silicon Products GmbH. Die Anlagen dienten ehemals einer Polysilizium-Fertigung und demnächst einer Fertigung von Silizium Wafern für die Photovoltaik. Es handelt sich dabei um ein bewährtes Verfahren um Chlorsilane, Chlorwasserstoff und Wasserstoff zu separieren und reinigen. Die Anlage ist nach Bundesimmissionsschutzgesetz (BlmSchG) als Betrieb der oberen Klasse eingestuft. Die Anlage ist derzeit nicht in Betrieb und es kann deshalb von ihr keine Gefahr ausgehen. Das Betriebspersonal bereitet derzeit den Bau einer Produktionsanlage zur industriellen Herstellung von qualitativ hochwertiger monokristalliner Siliziumwafer vor. Die Wiederinbetriebnahme ist nach dem vollzogenen Bau der Siliziumwafer-Fertigung geplant.